半導體曝光英文 – 台灣商業櫃台

Lithography

曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片. 光阻. 微影製程(Lithography). 基片(Substrate). 基片. 光阻. (PR, Photoresist). 光阻塗佈.

半導體元件製造過程可概分為晶圓處理製程（Wafer Fabrication；簡稱Wafer ..... 光照射部份或是陰影部份，如果曝光增加光阻的溶解率，則此類光阻為正光阻，如果.

光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的 ...

9. 光罩/倍縮光罩. 曝光. 顯影後. 負光阻. 紫外線. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 負光阻與正光阻. 基片 ... 普遍使用於半導體工廠 ... 在曝光後烘烤(PEB)製程中，熱能驅使光.

塗敷光阻劑. 溶解度會隨曝光程度改變. 曝光. 改變光阻劑溶解度. 顯影. 去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜. 剝除光阻劑. 擴散等表面處理 ...

論文中文名稱：, 改善半導體黃光微影製程曝光補償之研究 [以論文名稱查詢館藏系統]. 論文英文名稱：, Investigation of Exposure Compensation of Photolithography ...

多層板製程; 曝光製程; 光阻曝光原理; 曝光光源系統; 曝光量測. 多層板製程. 2007/4/10. 多層板Multilayer PCB 結構. 通孔Through Hole. 孔徑. 孔環Annular Ring.

的方法是用電子束曝光系統製作母光罩（master photomask），再用光學照像設備複 .... 目前半導體製程製作動態隨機存取記憶體（DRAM），64M位元或256M位元，.

2018年6月24日 - 在这里我们整理一些常用的半导体术语的中英文版本，希望对大家有所帮助。如果当中有 ... 光学投影曝光法optical projection exposure method.

儀器代碼. D-1. 中文名稱. 紅外線雙面對準曝光機. 英文名稱. OAI-500. 儀器經費來源. 購入日期. 2002-12-31. 儀器位置. 黃光室. 儀器狀態. 正常使用中 ...