蒸鍍- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
蒸鍍（英語：Deposition）是指將金屬和氧化物等蒸發，使其於素材的表面附著形成一層薄膜的一種方法。蒸鍍可大略分為物理蒸鍍（PVD）與 化學蒸鍍(CVD)兩種。
電子束蒸鍍機原理與技術資料
在早期的IC製程中，只有鋁被採用在金屬薄膜製程中，用加熱的方式用來沉積鋁金屬薄膜的方式也被廣泛的使用。電子束蒸鍍系統的開發就是為了要沉積高純度的鋁與 ...
PowerPoint 簡報 - 國研院台灣半導體研究中心
蒸鍍是在高真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻或電子束加. 熱達到熔化溫度，使原子蒸發，到達並附著在基板表面上的一種鍍膜. 技術。 在蒸鍍過程中，基板溫度 ...
金屬蒸鍍沈積(Metal Evaporation) - iST宜特
2018年7月24日 - 晶圓薄化的背面金屬化製程中BM，金屬蒸鍍沈積Metal Evaporation，在高真空的環境，利用電子束加熱欲蒸鍍之靶材，使靶材氣化後附著在加熱的晶 ...
電子束蒸鍍機E-beam Evaporator - 微奈米科技研究中心 - 成功大學
圖一：本中心電子束蒸鍍機. 一般鍍膜方法分為物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）及化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition, CVD）兩種。「物理氣相 ...
物理氣相沉積(PVD)介紹
的相變化，如蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)。而. 這種過程無涉及化學反應，因此所沉積的材料純度佳且. 品質穩定。 而PVD 的濺鍍製程，可以達成快速的沈積 ...
(急件)蒸鍍與濺鍍的原理? 高手請進贈二十點| Yahoo奇摩知識+
2007年2月28日 - 及濺鍍(Sputtering) 等兩種。前者是藉著對被蒸鍍物體加熱，利用被蒸鍍物在接近熔點時的高溫所具備的飽和蒸氣壓，來進行薄膜沉積；而後者，則是 ...
蒸鍍系統原理真空鍍膜技術之分類 - NTNU MNOEMS Lab. 國立台灣 ...
蒸鍍系統原理. Principle of evaporation system. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -2-. 真空鍍膜技術之分類. ○ 化學氣相沉積法(Chemical Vapor ...
熱蒸鍍製程- 國立高雄大學應用物理學系
一.實驗目的:利用電阻器（electric resistor）及坩堝將鍍膜材料(如金屬Cu)加熱並使其蒸發，而達成薄膜沉積的目的，此種方法的特點是在真空條件下透過加熱將熱穩性 ...